Китай совершил неожиданный прорыв в производстве чипов: помог экс-инженер ASML

Об этом пишет газета South China Morning Post, ссылаясь на работу исследовательской группу из Шанхайского института оптики и точной механики Китайской академии наук. Примечательно, что руководителем проекта стала Линь Нань, ранее возглавлявшая отдел технологий источников света в ASML — компании из Нидерландов, которая является единственным в мире производителем оборудования EUV.

С 2019 года ASML запрещено продавать свои самые передовые машины в Китай из-за санкций со стороны США. В то же время EUV-установки имеют решающее значение для производства чипов с узлами менее семи нанометров. В своем обращении к инвесторам 16 апреля генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявил, что Китаю потребуется много лет для создания своей EUV-машину, хотя кто-угодно может получить некоторое количество экстремального ультрафиолетового излучения.

Теперь же Линь Нань и ее команда уверяют в научной статье, будто китайцы уже достигли нужного уровня технологии. Как известно, ученая вернулась из Нидерландов в Китай в 2021 году в рамках проводимой страной кампании по набору высокопоставленных специалистов за рубежом и основал исследовательскую группу по передовым технологиям фотолитографии, которая, вероятно, добилась больших успехов благодаря знаниям бывшей сотрудницы ASML.

До прихода в ASML Лин проходила обучение у Анн Л'Юйе, лауреата Нобелевской премии по физике 2023 года и члена Королевской шведской академии наук, в рамках стипендии, присуждаемой программой Европейского союза имени Марии Склодовской-Кюри.

Как писало издание DigiTimes в марте, машина EUV-литографии проходит испытания на заводе Huawei в Дунгуане. Пробное производство запланировано на третий квартал 2025 года, а массовое производство — на 2026 год. Система использует технологию лазерно-индуцированной разрядной плазмы (LDP), тогда как ASML полагается на плазму, производимую с помощью лазера (LPP).

Эксперты, включая исследователя из TSMC, считают, что китайский метод может быть эффективнее технологии ASML. Если Китай успешно выведет на рынок технологию EUV на основе LDP, то сможет обойти санкции Запада и снизить зависимость от иностранных поставщиков оборудования. Однако для этого исследователям нужно победить ряд проблем: достичь достаточно выходной мощности (от 50-100 Вт до 250 Вт), наладить выпуск высокоточных оптических компонентов и внедрить технологии в массовое производство.